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发布时间:2018-9-1 5:01:04
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资源简介:成都电子科技大学2003年半导体物理考研试题考研真题
半导体试题 第 1 页 共 2 页 电子科技大学 2003 年攻读工程硕士专业学位研究生入学试题 考试科目:半导体物理 一、简答题(每小题 8 分) 1、 什么叫杂质的补偿?举例说明补偿现象的用处与危害? 2、 什么叫霍尔效应,如何根据霍尔系数判断材料导电类型及计算载流子浓度。 (假设只有一种载流子参与导电,且杂质全电离,载流子运动速度为 v 。) 3、 试比较间接复合效应与陷阱效应有何异同? 4、 什么是欧姆接触?形成欧姆接触的方法有几种?试根据能带图分别加以分析。 5、 请简要分析右图中中等掺杂浓度的 Si 的电阻率随温度的变化关系的原因。 二、 (15 分)证明题: 对于 p 型半导体, 当半导体处于非平衡态时 p FFF n F EEEE , 并在同一能带图上分 别画出 n F E 、 p F E 和 EF.其中 n F E , p F E 分别为电子和空穴准费米能级。 三、计算题 1、 (18 分) 试计算 300K 和 500K 时,同时含施主浓度 ND=1×10 15 cm -3 ,受主 NA=3× 10 8 cm -3 的 Si 中的电子和空穴浓度及电导率。(已知 Si 在 300K 和 500K 时的本征载流 子浓度分别为 313 104.2 cm , 316 100.2 cm ) (可能会用到的数值: ,/420,/10501031,300 22315 sVcmsVcmcmK pn 时, ,/150,/4201031,500 22315 sVcmsVcmcmK pn 时, ) 2、(15 分)掺杂浓度为 ND=10 16 cm -3 的 Si,光照产生的非平衡载流子线性分布,在 1μ m A B C T
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