日前，我校电子工程系2003级硕士研究生杨勇的论文“矩形靶磁控溅射中的拐角效应：蒙特卡罗模拟及实验研究”（Cross corner effect in　rectangular　magnetron　sputtering：Monte　Carlo　simulation　and　experimental　verification）被选为国际真空镀膜学会（Society of Vacuum Coater， SVC）资助的学生论文。